Un equipo de investigadores de Japón ha desarrollado una nueva técnica de impresión por inyección de tinta para la fabricación de transistor es de película fina de alto rendimiento.
Tatsuo Hasegawa, del Instituto Nacional de Tecnología y Ciencia Industrial Avanzada (AIST) de Tsukuba, y sus colegas han ideado un nuevo proceso de impresión que combina una tinta de semiconductores y otra de cristalización en una sola. La primera es un semiconductor en un disolvente y la segunda, un "antidisolvente" (un líquido en el que el semiconductor es insoluble). El método produce películas delgadas policristalinas o de un solo cristal excepcionalmente uniformes que se forman en la interfase líquido-aire sobre un substrato.
El proceso a temperatura ambiente se puede utilizar para fabricar dispositivos electrónicos impresos de grand superficie, incluyendo pantallas flexibles, células solares, papel electrónico y láminas sensoras.
Fuente: http://nanotechweb.org/cws/article/tech/46558
Tatsuo Hasegawa, del Instituto Nacional de Tecnología y Ciencia Industrial Avanzada (AIST) de Tsukuba, y sus colegas han ideado un nuevo proceso de impresión que combina una tinta de semiconductores y otra de cristalización en una sola. La primera es un semiconductor en un disolvente y la segunda, un "antidisolvente" (un líquido en el que el semiconductor es insoluble). El método produce películas delgadas policristalinas o de un solo cristal excepcionalmente uniformes que se forman en la interfase líquido-aire sobre un substrato.
El proceso a temperatura ambiente se puede utilizar para fabricar dispositivos electrónicos impresos de grand superficie, incluyendo pantallas flexibles, células solares, papel electrónico y láminas sensoras.
Fuente: http://nanotechweb.org/cws/article/tech/46558
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